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國(guó)內(nèi)二手半導(dǎo)體設(shè)備
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龍璽精密-為您提供ASML AT1100光刻機(jī)設(shè)備買賣+翻新全套解決方案
編 號(hào)：4040 (發(fā)布時(shí)間:2024.7.13) 咨詢此設(shè)備請(qǐng)加我微信
名 稱：ASML AT1100光刻機(jī)
廠 商：ASML
型 號(hào)：AT1100
年 份：2002
狀 態(tài)：國(guó)內(nèi)
AT1100設(shè)備完整不缺件,已翻新在臺(tái)灣;
AT:1100采用193nmArF曝光光源，針對(duì)于300mm晶圓處理的雙級(jí)光刻平臺(tái)。
AT:1100具有12"掃描儀。
AT:1100是一個(gè)193nm波長(zhǎng)系統(tǒng)，具有業(yè)界最高的數(shù)值孔徑ArF透鏡(NA=0.75)。建立在ASML于2000年7月推出的成功的300mm ;TWINSCAN雙級(jí)平臺(tái)之上。
AT:1100以20mJ/cm2的劑量實(shí)現(xiàn)每小時(shí)93個(gè)晶圓的吞吐量。通過(guò)分離對(duì)齊和曝光操作，可以在不影響吞吐量的情況下對(duì)整個(gè)300mm晶圓進(jìn)行更廣泛和準(zhǔn)確的對(duì)齊和晶圓表面高度映射.這種計(jì)量精度的提高對(duì)于在全吞吐量下提供100nm關(guān)鍵尺寸控制和晶圓上小于20nm的覆蓋層至關(guān)重要。
AT:1100引入了新的4kHz ;ArF激光技術(shù)，這有助于其領(lǐng)先的生產(chǎn)力優(yōu)勢(shì)。
AT:1100引入了新的4kHz ArF激光技術(shù)，這有助于其領(lǐng)先的生產(chǎn)力優(yōu)勢(shì)。
AT:1100專為與ASML的TWINSCAN產(chǎn)品系列（包括248nm深紫外系統(tǒng)AT:750和i-line系統(tǒng)AT:400）無(wú)縫混搭操作而設(shè)計(jì)
ASML AT1100光刻機(jī)
龍璽精密-為您提供二手ASML AT1100光刻機(jī)買賣+翻新全套解決方案。龍先生18868521984(微)
ASML AT1100光刻機(jī)更多詳細(xì)照片請(qǐng)加微信..
 
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