| 日期-ID |
圖 片 |
設備名稱 |
制造商 |
型號 |
年份 |
報價(￥) |
詳細配置 |
狀 態 |
| 11.20-1101 |
 |
LAM Research EOS晶圓清洗設備(16腔) |
LAM |
Research EOS |
2015 |
電話+微信咨詢 |
12"設備完整不缺件,無HDD; |
國外
|
| 11.20-1109 |
 |
LAM Research EOS晶圓清洗設備(8腔) |
LAM |
Research EOS |
2016 |
電話+微信咨詢 |
12"設備完整不缺件,無HDD; |
國外
|
| 10.14-1557 |
 |
LAM 490干法刻蝕機 |
LAM |
490 |
1993/1995 |
電話+微信咨詢 |
設備完整不缺件,有2臺現貨; |
國內
|
| 10.14-1558 |
 |
LAM RAINBOW 4520干法刻蝕機 |
LAM |
4520 |
1996/1997/ |
電話+微信咨詢 |
設備完整不缺件,有3臺現貨; |
國內
|
| 10.14-1559 |
|
LAM 4400B干法刻蝕機 |
LAM |
4400B |
2000 |
電話+微信咨詢 |
設備完整不缺件,有1臺現貨; |
國內
|
| 9.28-930 |
|
LAM RAINBOW 4520干法刻蝕機 |
LAM |
4520 |
1997 |
電話+微信咨詢 |
設備完整不缺件; |
國內
|
| 8.17-1059 |
|
LAM 4520XL二氧化硅RIE刻蝕機 |
LAM |
4520XL |
2019 |
電話+微信咨詢 |
設備完整不缺件; |
國內
|
| 7.30-4584 |
|
LAM Concept Three Speed CVD氣相沉積設備 |
LAM |
Concept Three Speed |
- |
電話+微信咨詢 |
設備完整不缺件; |
國外
|
| 7.18-4442 |
|
LAM INOVA物理氣相沉積設備 |
LAM |
INOVA |
- |
電話+微信咨詢 |
300mm設備完整不缺件; |
國外
|
| 7.18-4290 |
|
LAM TORUS200蝕刻機 |
LAM |
TORUS200 |
- |
電話+微信咨詢 |
200mm設備完整不缺件; |
國外
|
| 7.18-4289 |
|
LAM TORUS200蝕刻機 |
LAM |
TORUS200 |
- |
電話+微信咨詢 |
200mm設備完整不缺件; |
國外
|
| 7.18-4245 |
|
LAM ALTUS(Chamber only)氣相沉積設備 |
LAM |
ALTUS(Chamber only) |
- |
電話+微信咨詢 |
300mm設備完整不缺件; |
國外
|
| 7.18-4244 |
|
LAM ALTUS(Chamber only)氣相沉積設備 |
LAM |
ALTUS(Chamber only) |
- |
電話+微信咨詢 |
300mm設備完整不缺件; |
國外
|
| 6.20-3043 |
 |
LAM 2300 Exelan Flex蝕刻機 |
LAM |
2300 Exelan Flex |
2006 |
電話+微信咨詢 |
設備完整不缺件,有2套現貨; |
已售
|
| 6.13-3893 |
 |
LAM RAINBOW 4520 XLE刻蝕機 |
LAM |
4520XL |
2014 |
電話+微信咨詢 |
設備完整不缺件; |
國內
|
| 4.15-2701 |
 |
LAM SEZ223蝕刻機 |
LAM泛林 |
SEZ223 |
2006 |
電話+微信咨詢 |
8"設備完整不缺件,含安裝調試(6月下旬到國內); |
國內
|
| 4.15-1717 |
 |
LAM SEZ203蝕刻機 |
LAM泛林 |
SEZ203 |
- |
電話+微信咨詢 |
設備完整不缺件,含安裝調試,有3臺現貨; |
國內
|
| 4.15-2802 |
|
LAM SEZ203蝕刻機 |
LAM泛林 |
SEZ203 |
- |
電話+微信咨詢 |
設備完整不缺件; |
國內
|
| 1.15-4154 |
 |
LAM TCP9600SE等離子體刻蝕機 |
LAM |
TCP9600SE |
2005 |
電話+微信咨詢 |
6"設備完整不缺件,150mm; |
國外
|
| 9.26-4147 |
 |
LAM RAINBOW 4520i干法刻蝕機 |
LAM |
4520i |
2000 |
電話+微信咨詢 |
設備完整不缺件,在美國倉庫中; |
國外
|
| 9.26-4146 |
|
LAM RESEARCH 9400等離子刻蝕機 |
LAM |
9400 |
2000 |
電話+微信咨詢 |
設備完整不缺件,在美國倉庫中; |
國外
|
| 7.26-4062 |
 |
LAM SEZ FS 103-6單片旋轉腐蝕機 |
LAM泛林 |
FS 103-6 |
1996 |
電話+微信咨詢 |
6" |
國內
|
| 7.26-4077 |
|
LAM TE490干法刻蝕機 |
LAM |
TE490 |
- |
電話+微信咨詢 |
6" |
國內
|
| 7.26-4078 |
|
LAM TE490干法刻蝕機 |
LAM |
TE490 |
- |
電話+微信咨詢 |
6" |
國內
|
| 7.26-4061 |
 |
LAM SEZ FM101-6-B單片旋轉腐蝕機 |
LAM泛林 |
FM101-6-B |
1998 |
電話+微信咨詢 |
4-6" |
國內
|
| 6.23-4022 |
 |
LAM 2300 Exelan Flex蝕刻機 |
LAM |
2300 Exelan Flex |
- |
電話+微信咨詢 |
4室Ath-1600渦輪增壓+交流箱; |
國內
|
| 6.19-4014 |
 |
LAM C2 Triple SPEED氣相沉積 |
LAM |
C2 Triple SPEED |
- |
電話+微信咨詢 |
設備完整不缺件; |
國外
|
| 5.17-3911 |
 |
LAM 2300 Exelan Flex45 ICP蝕刻機 |
LAM |
2300 Exelan Flex45 |
- |
電話+微信咨詢 |
設備型號：2300 Exelan Flex 45
類型：ICP蝕刻機
晶圓尺寸：12“
設備配置：
-有12條輸氣管線
-維持在納米圖案化轉移能力和特別是嵌段共聚物、石墨烯和成型納米結構蝕刻方面的活動
-C4F8、CF4、O2、 |
國外
|
| 3.29-3839 |
 |
LAM RAINBOW 4420等離子刻蝕機 |
LAM泛林 |
RAINBOW-4420 |
1994 |
電話+微信咨詢 |
設備完整不缺件,目前在亞洲;
ISO蝕刻
晶圓尺寸200 mm
Fab截面蝕刻
軟件版本1.5版
CIM-SECS
工藝CMOS
主系統LAM 4420 ETHER 1
處理器系統諧波臂2
工廠接口SMIF 2
LL泵1 |
已售
|
| 3.12-3825 |
 |
LAM RAINBOW 4520XL干法刻蝕機 |
LAM泛林 |
4520XL |
2000 |
電話+微信咨詢 |
熱機運行中,但風扇需要更換; |
國外
|
| 12.27-3526 |
|
LAM 490B干法刻蝕機 |
LAM泛林 |
490B |
- |
電話+微信咨詢 |
6"備件機; |
國內
|
| 11.2-2405 |
|
LAM RAINBOW 4420等離子刻蝕機 |
LAM泛林 |
RAINBOW 4420 |
- |
電話+微信咨詢 |
6" As-is |
國外
|
| 7.22-2334 |
|
LAM RESEARCH 2300多晶硅蝕刻機 |
LAM泛林 |
2300 |
2005 |
電話+微信咨詢 |
missing parts缺件:
Load port 1 missing,
Tube Controller 3pcs missing. |
已售
|
| 6.17-2313 |
|
LAM RESEARCH 9400 SE等離子刻蝕機 |
LAM泛林 |
9400 SE |
1997 |
電話+微信咨詢 |
整機完整不缺件 |
國外
|
| 5.22-2234 |
|
LAM TCP9400氮化鎵刻蝕機 |
LAM泛林 |
TCP9400(備用機) |
2018-12-24 |
電話+微信咨詢 |
260臺設備可打包或單獨出售; |
已售
|
| 4.27-1986 |
|
LAM Chambers for Altus原子層沉積設備 |
LAM泛林 |
Chambers for Altus |
- |
電話+微信咨詢 |
12" |
國外
|
| 4.11-1977 |
|
LAM RESEARCH EOS濕式晶圓清洗設備 |
LAM泛林 |
RESEARCH EOS |
- |
電話+微信咨詢 |
- |
國外
|
| 10.1-1654 |
|
LAM TWO PLASMA CVD等離子化學氣相沉積 |
LAM泛林 |
TWO |
2000 |
電話+微信咨詢 |
CVD |
國外
|
| 10.1-1520 |
|
LAM RAINBOW 4420等離子刻蝕機 |
LAM泛林 |
RAINBOW 4420 |
- |
電話+微信咨詢 |
6" As-is |
國外
|
| 10.1-1160 |
|
LAM Vector Express CVD化學氣相沉積設備 |
LAM |
Vector Express |
2011 |
電話+微信咨詢 |
CVD34x, underutilized at FAB8, used
for old techs |
國外
|
| 10.1-1159 |
|
LAM Vector Express CVD化學氣相沉積設備 |
LAM |
Vector Express |
2011 |
電話+微信咨詢 |
- |
國外
|
| 10.1-1655 |
|
LAM ONE-W PECVD等離子化學氣相沉積 |
LAM泛林 |
ONE-W |
1995 |
電話+微信咨詢 |
PECVD; |
國外
|
| 10.1-1651 |
|
LAM RST201刻蝕機 |
LAM泛林 |
RST201 |
1997 |
電話+微信咨詢 |
WET |
國外
|
| 10.1-1653 |
|
LAM TWO Speed PLASMA CVD薄膜沉積設備 |
LAM泛林 |
TWO Speed |
2000 |
電話+微信咨詢 |
CVD |
國外
|
| 10.1-1652 |
|
LAM RST201刻蝕機 |
LAM泛林 |
RST201 |
1996 |
電話+微信咨詢 |
WET |
國外
|
| 10.1-836 |
|
LAM Vector CVD化學氣相沉積設備 |
LAM |
Vector |
2005 |
電話+微信咨詢 |
Vector RPC |
國外
|
| 10.1-516 |
|
LAM Strip45 Chamber Etch刻蝕機 |
LAM |
Strip45 Chamber |
2010 |
電話+微信咨詢 |
Strip45 chamber only |
國外
|
| 10.1-515 |
|
LAM Strip45 Chamber Etch刻蝕機 |
LAM |
Strip45 Chamber |
2010 |
電話+微信咨詢 |
Strip45 chamber only |
國外
|
| 10.1-513 |
|
LAM Strip45 Chamber Etch刻蝕機 |
LAM |
Strip45 Chamber |
2010 |
電話+微信咨詢 |
Strip45 chamber only, Revolution AX7690LAM-23 |
國外
|
| 10.1-504 |
|
LAM Vector SOLA xT CVD化學氣相沉積設備 |
LAM |
Vector SOLA xT |
2011 |
電話+微信咨詢 |
UV Cure |
國外
|
| 10.1-489 |
|
LAM Vector CVD化學氣相沉積設備 |
LAM |
Vector |
2004 |
電話+微信咨詢 |
- |
國外
|
| 10.1-1387 |
|
LAM Synergy CMP薄膜沉積設備 |
LAM泛林 |
Synergy |
1997 |
電話+微信咨詢 |
- |
國外
|
頁次：
1
/ 1頁 每頁：200 設備數：52
9[1]: 總共有1頁
|
|
