VTM單晶爐是依據我公司自主研發的VTM工藝方法所設計的新型單晶工藝設備，設備由加熱系統、運動系統支撐機構、電控系統四部分組成，適用碲鋅鎘、碲化鎘、銻化鎵等多種化合物半導材料的單晶生長。
VTM單晶爐設備特點：
晶體生長界面引入磁力控制，穩定晶體生長方向，提高了單晶成品率；
整機的機械運動及加熱系統采用PC控制，菜單數據可輸入，歷史數據可查詢，具有聲、光報警，生產重復性高；
加熱系統分主加熱裝置和輔助加熱裝置，主加熱控制整體溫度、輔助加熱可移動，實現局部加熱的高精度，加強了溫場的可控性；
運動系統采用一鍵式控制既滿足裝爐時的快速升降，又可以精確控制晶體生長時爐體的緩慢行程速度，大大提高生產效率；
支撐機構采用分體式設計，保暲穩定性同時有效阻隔了震動，提高單晶生長的質量及成品率；
采用剛性傳動機構，傳動效率高,穩定性強。
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